CULTURE
2020.02.25
フォトグラファー Ryusei Sabiによるミックスメディア作品展が開催
Point!
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フォトグラファー Ryusei SabiのバックグランドでもあるNYで、1970年代に始まったグラフィティーアートからインスパイアを受けたミックスメディアの展示会が開催 |
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東京とNYで写真を撮っていくなかで出会った、自分の人生を映画の主人公のように一生懸命に生きている被写体にアウトラインをひき作品として表現 |
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パーカーやTシャツに作品をプリントできるカスタムワークショップにも注目。気鋭のフォトグラファーの作品展にぜひ足を運んでみて！ |
INFO
Ryusei Sabi個展”Out of Line” at DUALISM
2020年2月22日（土）〜2月29日（金）
12:00〜20:00
AT. 東京都渋谷区神宮前3丁目21-10 フィールドワンビル2階
TEXT MARIKO TANAKA
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